内容 |
研究発表 |
巻 |
15巻2・3号2010年
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Page |
55
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題名 |
高い汚染物質除去率を示すRO/NF 膜の物理化学的特長
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Title |
Physico-chemical Properties of RO/NF Membranes for High Pollutant Removal |
著者 |
鈴木祐麻1),David G. Cahill 2),Jeffrey S. Moore 2),Benito J. Mariñas 2) |
Authors |
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著者表記 |
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著者表記(英) |
Tasuma Suzuki, David G. Cahill, Jeffrey S. Moore and Benito J. Mariñas |
著者勤務先名 |
1)山口大学・イリノイ大学, 2)University of Illinois at Urbane-Champaign |
Office name |
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著者所属名 |
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キーワード |
逆浸透膜, ナノろ過膜, 拡散, 架橋度, ポリアミドの不均一性 |
Key Words |
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概要 |
ポリアミド系逆浸透膜およびナノろ過膜のポリアミド層は150nm 以下と非常に薄いため、そ
の物理化学的構造は明らかになっていない。本研究は、ラザフォード後方散乱分析法により、ポ
リアミドの元素組成、平均厚さ、表面粗さ、架橋度を測定し、これらの物理化学的情報と砒素酸
(H3AsO3)の除去率との関係を調べた。その結果、高い砒素酸除去率を示す膜は、ポリアミドの架
橋度が高いことがわかった。また、ポリアミド層の不均一性が砒素酸の除去率をコントロールし
ている重要な因子であることが示唆された。 |
Abstract |
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